中国の半導体メーカーは、国内製品ASMLの分析を作成するよう政府に要請しました

中国の半導体業界リーダーは、EUVリソグラフィ（2026–2030）の国際協調開発を呼びかける

特別号で公開された記事では、中国最大手マイクロ製造企業の上層部が統一行動計画を提出した。目的はリソグラフィシステムの開発努力を同期させ、国の技術的自立性を高めることだ。

誰が発表したか　要旨
- チャオ・ジンジュン（Naura Technology Group）: さまざまな機関で得られた突破口を統合するために国の資源を結集するよう呼びかけ。
- チェン・ナンシャン（Yangtze Memory Technologies Corp.）: 外部供給障壁を乗り越え自立性を高めるため「中国版ASML」を創設すべきと主張。
- リュウ・ウェイピン（Empyrean Technology）: 統合企業を構築するために資金と人的リソースの配分が重要だと強調。

半導体産業主要機関の代表者は、以下の主要弱点を指摘した：
- 設計自動化用ソフトウェア
- シリコン基板材料
- ガス技術

なぜ今が重要か
* 米国の輸出制限（2020年以降）は、中国への7nm未満技術へのアクセスを制限し、EUVリソグラフィを極めて重要にしている。

* ASMLは世界唯一のEUVリソグラフィ装置供給者である。機器は5,000社から提供される100,000個の部品で構成され、ASMLはそれらを組み立てるだけだ。

* 国内突破：中国はEUVレーザー、シリコン基板製造、光学系など特定分野で大きな進歩を遂げたが、これら技術の統合は依然として難題である。

主要作業領域
1. 先端デバイスと部品の研究開発用統一プラットフォームの構築。
2. エレクトロニクス設計自動化ソフトウェアの開発促進。
3. 材料科学の強化：EUVリソグラフィに必要な高品質シリコン基板とガスの生産。
4. 五年計画（第15五カ年）内で国際協調を確立。

現状評価
* 中国は成熟プロセス（28nm以上）のマイクロ製造市場で約33％を占めている。
* これら分野では設計と生産の両面で大きな潜在力がある。

結論として、専門家は政府に対し、EUVリソグラフィのすべての主要コンポーネント統合実現計画を急ぎ策定するよう求めている。これにより独自の「ASML」を創設し、マイクロ製造の極めて重要技術で中国の自立性を確保できる。